Обзор

Плазменная дуга высокочастотного плазматрона обладает высокой плотностью потока энергии и огромным тепловым КПД. Так как в конструкции отсутствуют электроды, для данного типа оборудования характерна высокая степень чистоты плазмы без газрязнения продуктами эрозии электродов.

Высокочастотная плазма представляет собой ионизированный газ (например, аргон), нагретый до высокой температуры в переменном электромагнитном поле; загрузка сырья осуществляется в устройство ввода порошка; далее порошок подается струей газа (азота) на поток плазмы, где под воздействием высокой температуры происходит моментальная плавка; расплавленный порошок попадает в реактор, где остывает в среде инертного газа; в процессе остывания и кристаллизации порошок приобретает сферическоую структуру благодаря поверхностному натяжению. Далее порошок попадает в коллектор, где происходит забор готовой продукции.

Устройство оборудования

    Конструкция оборудования для сфероидизации порошка высокочастотной плазмой включает в себя следующие семь компонентов:

1. Высокочастотный плазматрон.

2. Источник питания высокочастотной плазмы;

3. Систему подачи газа и порошка;

4. Реактор и коллектор;

5. Система вакуумирования среды;

6. Контрольно-измерительная электронная система;

7. Устройство для охлаждения воды.

Высокочастотный плазматрон:

    Это основные ключевые технологии всего оборудования, обладающие имущественные права интеллектуальной собственности. Ограничивающие трубы керамики и расходящиеся форсунки можно работать под инертным газом, средом восстановления и окисления.

Источник питания высокочастотной плазмы:

Мощность 100кВт, частота 3.0±0.5мГц

Систему подачи газа и порошка:

Станок подачи порошка принимает импортной продукции канадской компании TEKNA, и он отправляет порошки материала в факелу плазмы. диаметр частицы отправленных порошках 10-200 мкм; с другой стороны, система подачи газа применяется тщательный расходомер (4 пути), предоставляет рабочий газ (аргон) для факела.

Реактор и коллектор:

   Камера реакция и камера собирания использовуют структуру двойное-слои водного охлаждения, и они изготовлены из нержавеющей стали, полностью приняв вакуум-уплотнения; подпорки перекрасил углеродистой сталей,  частичные материалы алюминиевых сплавов, которые сильны, тяжело, стабильный и безопасный.

Система вакуумирования среды:

она состоит из циркуляционного водяного вакуумного насоса + механического насоса + насос Рутса + регулировающих клапанов + трубы + сильфоны, и переключится чтобы содержает требовании напряжения загрузки для функционирования системы загрузки. Максимальная вакуума 8 х 10^-2Па.

Контрольно-измерительная электронная система:

  измерения температуры и давления, регулирование фильтра обратно дуть, контроль  направления порошка, поток газа и т.д..

Устройство для охлаждения воды:

  Мощность 30hp, приняв структуры охлаждения воздуха и обеспечить чистую охлаждающую воду для электропитания и факела плазмы.

Особенности

1. Высокая температура нагрева, быстрое остывание порошка и отсутствие загрязнения продуктами эрозии электродов;

2. Равномерное распыление материала в потоке плазмы гарантирует высокое качество плавки и сфероидизации порошка;

3. Оборудование используется для обработки тугоплавких металлов и оксидных порошков ( W, Mo, Ti, W, WC, Al₂O₃, окись кремния, диоксид циркония и прочими);

4. Порошок, прошедший обработку высокочастотной плазмой, имеет правильную структуру, высокую степень сфероидизации, чистую и гладкую поверхность гранул, обладает хорошей текучестью.